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  • 美國恩科優N&Q系列光刻機8006
美國恩科優N&Q系列光刻機8006

美國恩科優N&Q系列光刻機8006

  • 品牌:恩科優(N&Q)型號:NXQ800-6產地:美國恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機是以自動系統為主。該系統優越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統,現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統的首選。

產品詳情

品牌:恩科優(N&Q

型號:NXQ800-6

產地:美國

美國恩科優N&Q系列光刻機8006(圖1)




恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機是以自動系統為主。該系統優越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學系統,現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多著名企業、研發中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統的首選;



二、技術參數:

1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規則碎片(支持對不規則碎片的特殊卡盤設計);

2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

4、分辨率:優于0.5um;

5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

6、出射光強范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光強或恒定功率模式;

8、曝光時間:0.1~999.9s;

9、對準精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監視器,對準精度可達到0.4微米內;

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉換器);

11、光強均勻性Uniformity

<±1% over 2 區域;

<±2% over 4 區域;

<±3% over 6 區域;

12、雙面光刻:具備背面紅外對準(IR BSA)和光學背面對準(OBS BSA),雙面對準精度≤2μm;

13、電源:高靈敏度光強可控電源。

可選型號:

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8


三、產品特點:

可選支持單面對準和雙面對準設計;

高清晰彩色雙CCD鏡頭采用最先進的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠修正的CCD鏡頭設計);雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

高清彩色雙顯示屏;

全新氣動軸承導軌設計,高精準,低磨損,無需售后維護的;

具有自動執行楔形誤差補償,并在找平后自動定位功能;

操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

操控手柄調控模式的獨特設計;

采用LED穿透物鏡照明技術,具有超強對準亮度;

采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構;

抗衍射反射的高效光學光路設計;

帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器;

全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度;

設備穩定性,耐用性超高;



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