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  •  荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150
 荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150

荷蘭 真空快速退火爐 AS-One100/150

  • 真空快速退火爐AS-OneAS-One是一種通用的RTP系統(tǒng),可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。可以搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。最高溫度1500 ℃,最快升溫速率200℃/Second。

產(chǎn)品詳情

真空快速退火爐AS-One



AS-One是一種通用的RTP系統(tǒng),可用于開發(fā)快速熱退火和快速熱CVD工藝。

可以搭配分子泵實現(xiàn)高真空下熱處理工藝。

最高溫度1500 ℃,最快升溫速率200/Second

全程PC軟件控制升溫程序,保證溫度不過沖,控溫精度準(zhǔn)確。


應(yīng)用:

? RTA(快速熱退火)

? RTO(快速熱氧化)

? 歐姆接觸退火

? 植入退火

? 石墨烯和hBN的快速熱化學(xué)氣相沉積RTCVD

? 硒化,硫化

? 結(jié)晶和致密化


產(chǎn)品特點(diǎn):

1 紅外鹵素?zé)艄芗訜幔鋮s采用風(fēng)冷(低噪音水平,無需壓縮空氣);

2、加熱由功率控制而非電壓控制,避免了由于燈絲老化電阻改變導(dǎo)致的后續(xù)使用中加熱不均的問題,保證了良好的重現(xiàn)性及均溫性,即使在后續(xù)使用過程中更換了部分新的燈管也可以達(dá)到最初的熱處理效果;

3、石英腔體,腔體冷卻采用水冷,冷壁設(shè)計,雙層不銹鋼;

冷壁水冷技術(shù)優(yōu)點(diǎn)在于:1、無記憶,2、工藝重復(fù)性高,3、冷卻速度快;

4、反應(yīng)腔室的設(shè)計,氣體的進(jìn)入口設(shè)計在wafer的表面,避免在退火過程中冷點(diǎn)的產(chǎn)生。很好的保證了樣品在加熱過程中的均溫性;

5、快速數(shù)字PID控溫;

6、熱電偶配合高溫計控溫,測試樣品的溫度,控溫精準(zhǔn);

7、大氣和真空工藝均適合,凈化氣體配針閥;

8、最多5路工藝氣體,配數(shù)字質(zhì)量流量控制器;

9、電腦通過以太網(wǎng)連接更快的數(shù)據(jù)傳輸速度;

10、可選配石墨托盤表面涂SiC薄膜設(shè)計,用于小樣品測試;

11、可選配分子泵,用于高真空測試;

產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)配置及規(guī)格參數(shù):

1、樣品最大尺寸:AS-One1004-inchAS-One150 6-inch

2、溫度范圍:AS-One100室溫~1250 ℃;(室溫~1500 ℃可選)

            AS-One150室溫~1200 ℃;(室溫~1300 ℃可選)

3、升溫速率:AS-One100 0.1 ~250 /s

            AS-One150 0.1 ~200 /s

4、溫度控制:快速數(shù)字PID控制;

5、熱電偶:2K型熱電偶;

6、低溫高溫計溫度范圍:150~1100 ℃;

7、高溫高溫計溫度范圍:400~1500 ℃;

8、工藝氣體氣路配質(zhì)量流量計;

9、配置真空泵及真空規(guī);


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